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半導體領(lǐng)域濺射靶材作為一種用于制備薄膜的材料，在半導體工業(yè)中扮演著關(guān)鍵角色。靶材通過濺射工藝在半導體晶片表面沉積薄膜，實現(xiàn)對半導體器件導電性能與電子遷移性能的精準控制。

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